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當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心顯微測(cè)量?jī)x臺(tái)階儀NS200高重復(fù)性大量程臺(tái)階儀
高重復(fù)性大量程臺(tái)階儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

NS系列高重復(fù)性大量程臺(tái)階儀臺(tái)階高度重復(fù)性能低于5A,Z0向測(cè)量量程可到1050um。最高垂直分辨率可達(dá)亞埃米級(jí),且垂直方向動(dòng)態(tài)比率高,可以獲取表面輪廓形貌、粗糙度、波紋度、形狀誤差及其它一些形貌特征等綜合信息。探針物理接觸測(cè)量結(jié)果穩(wěn)定可靠,重復(fù)性好,精準(zhǔn)拿捏測(cè)量的輪廓形貌細(xì)節(jié)。

產(chǎn)品型號(hào):NS200
更新時(shí)間:2025-05-14
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問(wèn)量:59
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NS系列高重復(fù)性大量程臺(tái)階儀臺(tái)階高度重復(fù)性能低于5A,Z0向測(cè)量量程可到1050um。最高垂直分辨率可達(dá)亞埃米級(jí),且垂直方向動(dòng)態(tài)比率高,可以獲取表面輪廓形貌、粗糙度、波紋度、形狀誤差及其它一些形貌特征等綜合信息。探針物理接觸測(cè)量結(jié)果穩(wěn)定可靠,重復(fù)性好,精準(zhǔn)拿捏測(cè)量的輪廓形貌細(xì)節(jié)。

應(yīng)用場(chǎng)景適應(yīng)性強(qiáng),其對(duì)被測(cè)樣品的反射率特性、材料種類及硬度等均無(wú)特殊要求,可測(cè)量沉積薄膜的臺(tái)階高度、抗蝕劑(軟膜材料)的臺(tái)階高度等。

高重復(fù)性大量程臺(tái)階儀

產(chǎn)品功能

1.參數(shù)測(cè)量功能

1)臺(tái)階高度:能夠測(cè)量納米到330μm或1050μm的臺(tái)階高度,可以準(zhǔn)確測(cè)量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。

2)粗糙度與波紋度:能夠測(cè)量樣品的粗糙度和波紋度,分析軟件通過(guò)計(jì)算掃描出的微觀輪廓曲線,可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等數(shù)十項(xiàng)參數(shù)。

3)應(yīng)力測(cè)量:可測(cè)量多種材料的表面應(yīng)力。

2.測(cè)量模式與分析功能

1)單區(qū)域測(cè)量模式:完成Focus后根據(jù)影像導(dǎo)航圖設(shè)置掃描起點(diǎn)和掃描長(zhǎng)度,即可開始測(cè)量。

2)多區(qū)域測(cè)量模式:完成Focus后,根據(jù)影像導(dǎo)航圖完成單區(qū)域掃描路徑設(shè)置,可根據(jù)橫向和縱向距離來(lái)陣列形成若干到數(shù)十?dāng)?shù)百項(xiàng)掃描路徑所構(gòu)成的多區(qū)域測(cè)量模式,一鍵即可完成所有掃描路徑的自動(dòng)測(cè)量。

3)3D測(cè)量模式:完成Focus后根據(jù)影像導(dǎo)航圖完成單區(qū)域掃描路徑設(shè)置,并可根據(jù)所需掃描的區(qū)域?qū)挾然驋呙杈€條的間距與數(shù)量完成整個(gè)掃描面區(qū)域的設(shè)置,一鍵即可自動(dòng)完成整個(gè)掃描面區(qū)域的掃描和3D圖像重建。

4)SPC統(tǒng)計(jì)分析:支持對(duì)不同種類被測(cè)件進(jìn)行多種指標(biāo)參數(shù)的分析,針對(duì)批量樣品的測(cè)量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的變化趨勢(shì)。

3.雙導(dǎo)航光學(xué)影像功能

在NS200-D型號(hào)中配備了正視或斜視的500W像素的彩色相機(jī),在正視導(dǎo)航影像系統(tǒng)中可精確設(shè)置掃描路徑,在斜視導(dǎo)航影像系統(tǒng)中可實(shí)時(shí)跟進(jìn)掃描軌跡。

4.快速換針功能

NS系列高重復(fù)性大量程臺(tái)階儀采用了磁吸式測(cè)針,當(dāng)需要執(zhí)行換針操作時(shí),可現(xiàn)場(chǎng)快速更換掃描測(cè)針,并根據(jù)軟件中的標(biāo)定模塊進(jìn)行快速標(biāo)定,確保換針后的精度和重復(fù)性,減少維護(hù)煩惱。

高重復(fù)性大量程臺(tái)階儀

磁吸針實(shí)物外觀圖(330μm量程)


行業(yè)應(yīng)用場(chǎng)景

半導(dǎo)體制造:沉積/蝕刻薄膜厚度測(cè)量、CMP工藝表面平整度檢測(cè)、抗蝕劑臺(tái)階高度分析。

光伏與顯示面板:太陽(yáng)能涂層膜厚、AMOLED屏微結(jié)構(gòu)、觸控面板銅跡線測(cè)量。

MEMS與微納材料:微型傳感器形貌表征、柔性電子器件薄膜厚度檢測(cè)。

科研與高校:材料表面應(yīng)力分析、微加工工藝研發(fā)數(shù)據(jù)支撐。

高重復(fù)性大量程臺(tái)階儀

部分技術(shù)參數(shù)

型號(hào)NS200
測(cè)量技術(shù)探針式表面輪廓測(cè)量技術(shù)
探針傳感器超低慣量,LVDC傳感器
平臺(tái)移動(dòng)范圍X/Y電動(dòng)X/Y(150mm*150mm)(可手動(dòng)校平)
樣品R-θ載物臺(tái)電動(dòng),360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)
單次掃描長(zhǎng)度55mm
樣品厚度
50mm
載物臺(tái)晶圓尺寸150mm(6吋),200mm(8吋)
尺寸(L×W×H)mm640*626*534
重量40kg
儀器電源100-240 VAC,50/60 Hz,200W

使用環(huán)境

相對(duì)濕度:濕度 (無(wú)凝結(jié))30-40% RH

溫度:16-25℃ (每小時(shí)溫度變化小于2℃)

地面振動(dòng):6.35μm/s(1-100Hz)

音頻噪音:≤80dB

空氣層流:≤0.508 m/s(向下流動(dòng))

懇請(qǐng)注意:因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會(huì)根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請(qǐng)諒解。

如有疑問(wèn)或需要更多詳細(xì)信息,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢。

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